第994章 挖坑就跳

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“總書記經常說，我們要啃最硬的骨頭，接最燙手的山竽。不能避難就易。”江寒道：“只要我們邁過這個坎，我們將站上一個更高的發展層次。否則，我們永遠就是低層次徘徊、低質量迴圈。”

“江寒，總書記說的沒錯，但他指的不是科技和產業領域，是指幹部隊伍的一種奮鬥精神和工作狀態。科技領域，就像你說的晶片那麼難，我們現在的實力和積累都不夠，我們起步晚了，想出成果並不容易。我們把重點放在汽車工業上，用汽車工業帶動工業體系的完善，時機成熟再集中搞晶片攻關也不遲。”中科院副院長劉鹹說道。

“劉院長，其實，晶片發展上，我們起步並不晚，當時的水平我們並不差，甚至還強上一籌。”江寒不管劉鹹的臉色如何，只管糾正他剛才的錯誤。

上世紀五十年代中期，周總理就注意到了半導體技術的發展，可謂是高瞻遠矚。國家也將該產業作為之後重點發展的目標。

在中科院和冀省半導體所的共同努力下，於1965年就研製出了我國第一塊矽基積體電路，同年，還研製出了一款名叫65式的接觸式光刻機。

全球光刻機大佬——荷蘭的ASmL於1984年才開始成立，我國的光刻機比他足足早了20年。

而同時期的韓國三星，也就才剛剛起步，停留在組裝和研究階段。

我們國家的晶片發展，和美國、日本等基本處於同一起步線，比韓國還要稍快一些。

當時，我國的電子管廠年產量就能夠達到一千二百多萬只，無論是積體電路還是矽單晶，都處在全球領先的位置。

隨後，我們經歷了大家都知道的十年特殊時期，但是，我們的晶片發展依然勢頭很猛，始終保持在國際第一梯隊上。

1968年，滬市的無線電廠成功研製出了pmos積體電路，之後在美國dSw4800光刻機的刺激下，全體科研人員又歷經兩年時間，終於在1980年研製出了第四代分散式投影光刻機。

精度也達到了美國的同一水準3微米。

上世紀八十年代，在國際晶片領域屬於第一梯隊。

“為什麼當時發展那麼好呢？那是因為我們回來了一大批頂尖的專家，他們純粹是奔著充滿希望的新中國回來的，他們當時就是世界頂尖！”

江寒繼續道：“我們晶片行業的開山鼻祖之一黃昆，在英國留學，1950年帶著他的英國妻子回國，他帶頭開設了半導體物理學課程，幫助培養了甘子釗、夏建白等之後的著名科學院士。為我國後來的半導體研究奠定了堅實的基礎。”

“還有科學家王守武，從美國普渡大學畢業後留校任教，1950年回國，他帶領中國眾多科研人員研製出了4000位、16千位的dRAm大規模積體電路。而我國第一支半導體鐳射器也是他率先研製的。可以說，我國在半導體電子技術領域的發展，王守武院士居功至偉。”

“而八十年代之後，我們的晶片落後了，原因是什麼呢？原因是我們的人才外流！過去是人才回流，從80年代起就是人才外流。我們的大學培養的人才到美國、英國等發達國家留學，不回來了！而外面的人才都不願意回來了！”

這種情況越往後越嚴重，可謂是愈演愈烈。在八十年代末期，我國在晶片領域的人才還很多，但奈何我們的科技發展體制弊端逐步顯現，導致大量人才流失。

大陸及香港地區百分之九十的人攻讀晶片和微電子領域，然而竟有超過八成的研究生想要去美國工作。

有很多赴美學生都是半導體領域的人才，他們幫助美國攻克了3nm、5nm三極體以及光刻機的相關難題。

在全球眾多半導體領域的科學家中，前幾名幾乎都是美籍華人，可以說是