第五十三章 追光行動（3）

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算了。

做科研，天賦之外，還得有眼光或者說是運氣，否則走錯了路，一輩子也就蹉跎了。

而這小子，無疑眼光或者是運氣，都是逆天的。

接著，卿雲的語氣變得嚴肅，“不過，徐老爺子，還是要快，留給我們的時間並不多。”

徐端頤聞言，眼中閃過一絲堅定的光芒，“小卿，你放心，我這條命豁出去了。”

卿雲點了點頭，然後繼續說道：“第二步，各大科研機構挑大樑，對各個子系統進行攻關，力爭在5年內實現國產化率超過50%的目標。

再多的，無非是時間問題。

錢，你們不用考慮。至於基礎材料什麼的，我會啟動另外一個計劃來解決，絕對不會短科研一個材料。”

他的話語中透露出強大的自信和決心，讓在座的各位大佬都感到了一種前所未有的振奮。

那邊的黃令儀此時卻給他破了一盆冷水，“小卿，不要盲目樂觀。並不是有光刻機就‘大功告成’，可以開始‘印晶片’了。

光刻機更像是中間執行的環節，而在執行前後，還需要很多同樣重要的工作，比如說計算光刻和量測。”

術業有專攻，她擔心其他做元件和器件的同行不懂，進一步開口解釋著，

“計算光刻指的是利用各種物理，化學和數學模型去計算模擬真實光刻發生的過程和結果。

透過修改各種引數，尋找最優的引數組合來修正掩膜板的圖形和光源形狀，來提升光刻的質量。

這種模擬模擬的思路類似造飛機的時候需要經過很多次的風洞實驗，都透過之後才能進行真正的試飛，否則既危險又成本高昂。

計算光刻已經成為現代光刻技術研發的核心和最重要的環節之一。”

那邊的徐端頤也補充著，“量測，就是進行晶片的缺陷檢測，判斷晶片是否合格。

一個晶圓的製作可能包含近百次的曝光，由於每次曝光的間隔都需要對晶圓進行移動調整，為了保證移動的穩定和精準，避免出現小至幾奈米的誤差導致晶片報廢，就需要不斷的對晶圓在奈米尺度做量測，並且實現校正和結果的反饋，從而不斷的提升良率……”

徐端頤的話還沒說完，就被卿雲展示出來的ppt給打斷了，而後一臉便秘的望著臺前正無良笑著的少年。

狗日的！

你便宜老師科普的時候你不打斷，我特麼說話的時候你就來打臉是吧！

手裡的茶杯蓋子都想呼在那臭屁小子的臉上了。

太不尊老了！

臺上的卿雲嘿嘿的笑著，“積體電路製造的主要流程大概是，opc、smo計算光刻-塗膠-曝光-顯影-刻蝕-離子注入-光刻膠移除-沉積-下一層製程-量測檢驗。

這十大工序，如同上面光刻機器的七大系統，我都進行了考慮和安排……”

徐端頤的內心雖然被卿雲突如其來的ppt展示打斷而感到有些尷尬，但隨即他的心中卻湧起了一股莫名的欣喜。

他心中暗自思忖：“這小子，確實有兩把刷子。這種打臉，打得我舒坦。這說明了，他確實對各個環節都瞭如指掌，並且一一做了預案。”

徐端頤望著卿雲的眼神中，不禁流露出了讚許的神色。

他知道，卿雲的準備充分，意味著整個專案的成功機率將會大大提高。

在科研領域，一個詳盡的預案往往能夠決定一個專案能否順利進行。

這種被後輩以實力打臉的感覺，讓他既感到有些沒面子，但同時也感到欣慰。

他明白，他們已經老了，甚至這裡坐著的不少人，其實已經到了油盡燈枯的年紀。

科研的未來需要依靠這些有準備